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| 设备类型： |
刻蚀工艺 |
所属平台： |
微加工与器件平台 |
| 状态： |
正常
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管理员： |
莫观孔(moguankong), 0769-89136291+8009 |
| 备注： |
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| 用途： |
主要通过高能量的Ar离子束物理轰击材料表面，也可以通入化学气体进行反应刻蚀或者化学辅助对材料进行刻蚀。通常用来刻蚀金属、介质膜或者Si等材料，几乎所有的材料都可以刻蚀。
可进行光栅倾斜刻蚀工艺。 |
| 技术指标： |
离子束能量：100~1800eV可调
工作台倾斜角度：0~145度可调
装片：8 inch 向下兼容, 4 inch及以下刻金属或金属化合物的wafer暂不在该设备做，建议选用埃德万斯离子束刻蚀设备。
去边：5mm以上才能保证不影响氦漏。
均匀性（8寸）：3%
注：半小时起约
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| 开放时间： |
【星期日】08:30-23:45;
【星期一】08:30-23:45;
【星期二】08:30-23:45;
【星期三】08:30-23:45;
【星期四】08:30-23:45;
【星期五】08:30-23:45;
【星期六】08:30-23:45 |
| 计费单价： |
1500.00 元/小时 (0.00 元/件) |
培训计费单价： |
2000.00 元/人次
(需要培训)
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| 人工费单价： |
200.00 元/小时 |
违约计费单价： |
1500.00 元/小时 |
| 最后修改： |
2024-11-24 17:27:45 |
修改人： |
莫观孔(moguankong) |