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| 设备类型： |
薄膜工艺 |
所属平台： |
微加工与器件平台 |
| 状态： |
正常
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管理员： |
温凤和(wenfenghe), 0769-89136291+8003 |
| 备注： |
1、不加热模式，样品亦会升温至100℃以上，不支持带胶进腔
2、起约时间1.5h（抽真空~1h）
3、预约请备注镀膜材料及厚度
4、如使用靶材不在腔体，换靶和监控时间由使用客户承担，或者切换膜种类需要做监控确认工艺的均需要客户承担机时。
5、非工作日时间约机时，请提前与设备负责人沟通同意后，再预约。
6、TiN 工艺方阻波动较大，详情可联系设备负责人确认。
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| 用途： |
介质磁控溅射机台，具备3个矩形靶枪，2个脉冲直流电源，1个射频电源，1个带射频电源的离子源，配备Ar、N2、O2气体。主要采用反应磁控溅射原理，用于以下薄膜材料制备：
1）Nb2O5、TiO2、SiO2、SiNx、TiN等氧化物及氮化物薄膜
2）Nb2O5/SiO2系列光学高反膜、增透膜
装片能力：碎片若干 or 2寸35片 or 3寸15片 or 4寸15片 or 6寸5片 or 8寸5片
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| 技术指标： |
1）样品尺寸：2寸、3寸、4寸、6寸、8寸及碎片
2）温度：最高加热至150℃
3）极限真空：5xE-7Torr
4）常规工艺速率~1.5A/s
5）薄膜不均匀性：≤±3%（晶振控制 or 时间控制）
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| 开放时间： |
【星期日】08:30-23:45;
【星期一】08:30-23:45;
【星期二】08:30-23:45;
【星期三】08:30-23:45;
【星期四】08:30-23:45;
【星期五】08:30-20:00;
【星期六】08:30-23:45 |
| 计费单价： |
1000.00 元/小时 (0.00 元/件) |
培训计费单价： |
2000.00 元/人次
(需要培训)
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| 人工费单价： |
200.00 元/小时 |
违约计费单价： |
1000.00 元/小时 |
| 最后修改： |
2024-07-22 08:28:33 |
修改人： |
温凤和(wenfenghe) |