|
 |
|
![]() |
| 设备类型： |
刻蚀工艺 |
所属平台： |
微加工与器件平台 |
| 状态： |
正常
|
管理员： |
俞程(yucheng), 0769-89136291+8002 |
| 备注： |
|
| 用途： |
主要用于各种金属基材料的刻蚀，例如：
射频MEMS器件： BAW, FBAR （电极， 台面等）等刻蚀；
新材料刻蚀工艺开发 （例如LiNbO3, LiTaO3等）；
|
| 技术指标： |
ICP功率：≤1000W; RF功率：≤600W；
装片：2英寸、4英寸、6英寸和8英寸整片；
基底刻蚀温度：-20℃-40℃；
主要刻蚀材料为常见金属以及金属基材料，如Cr、W、Al、TiO2、Ta2O5、AlN、Mo、LN等
|
| 开放时间： |
【星期日】09:15-22:00;
【星期一】10:00-23:00;
【星期二】09:15-23:00;
【星期三】09:15-23:00;
【星期四】09:15-23:00;
【星期五】09:15-23:00;
【星期六】09:15-23:00 |
| 计费单价： |
1200.00 元/小时 (0.00 元/件) |
培训计费单价： |
2000.00 元/人次
(需要培训)
|
| 人工费单价： |
200.00 元/小时 |
违约计费单价： |
1200.00 元/小时 |
| 最后修改： |
2024-01-02 15:52:07 |
修改人： |
俞程(yucheng) |