设备信息
成像型椭偏仪 编号: 1821SMC0013 / 型号: EP4/Nanofilm_EP4SE
设备类型: 光谱测量 所属平台: 材料制备与表征平台
状态: 正常 管理员: 孙婧(sunjing)
备注:
如需加急请联系测试工程师,并根据实际情况收取加急费。 送样前请提前联系设备管理员:孙婧,13685254117(微信同号)
用途:

椭圆偏振光谱测量技术通过测量线偏振光经材料表面反射后光的相对振幅与相位改变量计算得到椭偏参数,再通过椭偏参数的拟合获取薄膜样品的折射率和消光系数及厚度数据。由于其具有非接触、高灵敏度、非破坏性等优势,广泛应用于物理、化学、材料科学和微电子等方面,是一种不可或缺的光学测量手段。

技术指标: 横向分辨率:1μm;
测量范围:70 μm-2mm(图像可拼接,实现大尺寸样品的椭偏测试);
放大倍率:2× – 50×;
折射率测量精度:±0.005(100 nm SiO2/Si);
厚度测量精度:±0.4 nm(120nm  SiO2/Si);

开放时间: 【星期一】08:00-12:00, 13:30-17:30;
【星期二】08:30-12:00, 13:30-17:30;
【星期三】08:00-12:00, 13:30-17:30;
【星期四】08:30-12:00, 13:30-17:30;
【星期五】08:30-12:00, 13:30-17:30
计费单价: 500.00 元/小时 (0.00 元/件) 培训计费单价: 0.00 元/人次
人工费单价: 0.00 元/小时 违约计费单价: 200.00 元/小时
最后修改: 2024-02-22 09:21:25 修改人: 孙婧(sunjing)